崗位內(nèi)容:
1、 針對碳化硅材料運用領(lǐng)域研究;
2、 負(fù)責(zé)碳化硅外延生長技術(shù)(包括晶體生長、CVD薄膜生長)的研發(fā)與工藝改進,優(yōu)化現(xiàn)場作業(yè)流程,提升生產(chǎn)效率與產(chǎn)品質(zhì)量;
3、研究碳化硅芯片/器件在上下游產(chǎn)業(yè)鏈中的應(yīng)用,分析客戶需求與行業(yè)動態(tài),推動產(chǎn)品與市場需求的精準(zhǔn)匹配;
4、主導(dǎo)碳化硅外延工藝研發(fā),負(fù)責(zé)外延設(shè)備的日常維護、Recipe參數(shù)設(shè)定與優(yōu)化,確保工藝穩(wěn)定性和設(shè)備高效運行;
5、通過工藝優(yōu)化與流程改進,持續(xù)提升產(chǎn)品良率及成品率,降低生產(chǎn)成本;
6、研究并引入外延工藝新技術(shù),主導(dǎo)新產(chǎn)品試制及新工藝的量產(chǎn)導(dǎo)入;
7、負(fù)責(zé)碳化硅外延生產(chǎn)計劃的制定與執(zhí)行,優(yōu)化生產(chǎn)時序安排,解決工藝異常問題;
8、跟蹤外延片性能數(shù)據(jù),進行分析與改善,形成標(biāo)準(zhǔn)化報告。
崗位要求:
研發(fā)工程師
1、碩士及以上學(xué)歷,專業(yè)要求材料、機械、物理、微電子、化工或其他半導(dǎo)體相關(guān)專業(yè);有2年以上工作經(jīng)驗,學(xué)歷可放寬至本科學(xué)歷;
2、具有1年以上的半導(dǎo)體材料加工、晶圓室溫鍵合或臨時鍵合工藝相關(guān)經(jīng)驗;
3、熟悉離子注入(Ion Implantation)或晶圓剝離(Wafer Exfoliation)技術(shù);
4、有碳化硅(SiC)、氮化鎵(GaN)等寬禁帶半導(dǎo)體材料制備或鍵合經(jīng)驗者優(yōu)先;
5、有離子注入工藝模擬軟件(如SRIM、 Sentaurus)使用經(jīng)驗優(yōu)先;
6、熟悉中試線或量產(chǎn)線工藝流程者優(yōu)先。
研發(fā)工程師(外延)
1、碩士及以上學(xué)歷,專業(yè)要求材料、機械、物理、微電子、化工或其他半導(dǎo)體相關(guān)專業(yè);有2年以上工作經(jīng)驗,學(xué)歷可放寬至本科學(xué)歷;
2、具有1年以上的碳化硅半導(dǎo)體相關(guān)產(chǎn)品設(shè)計、研發(fā)等一線經(jīng)驗(研究生課題方向或工作經(jīng)歷均可);
3、具有扎實的碳化硅功率器件、半導(dǎo)體器件設(shè)計與制作相關(guān)的理論基礎(chǔ);
4、能夠獨立完成碳化硅功率器件的設(shè)計和調(diào)試者優(yōu)先。
研發(fā)工程師(磨拋)
1、本科及以上學(xué)歷,專業(yè)要求材料、機械、物理、微電子、化工或其他半導(dǎo)體相關(guān)專業(yè);
2、具有1年以上的硬脆材料的研磨拋光(MP、CMP和減薄)工作經(jīng)驗;
3、有半導(dǎo)體薄膜沉積(PVD/CVD)或反應(yīng)離子刻蝕(RIE)經(jīng)驗優(yōu)先。
研發(fā)工程師(檢測)
1、本科及以上學(xué)歷,專業(yè)要求材料、機械、物理、微電子、化工或其他半導(dǎo)體相關(guān)專業(yè);
2、具有1年以上的化合物半導(dǎo)體晶片的檢測工作經(jīng)驗;
3、有使用二次離子質(zhì)譜(SIMS)分析薄膜層的摻雜濃度與均勻性或使用X射線衍射(XRD)評估剝離后的晶圓表面質(zhì)量與缺陷的經(jīng)驗優(yōu)先。
研發(fā)工程師(清洗)
1、大專及以上學(xué)歷,專業(yè)要求材料、機械、物理、微電子、化工或其他半導(dǎo)體相關(guān)專業(yè);
2、具有1年以上的化合物半導(dǎo)體晶片的清洗工作經(jīng)驗;
3、有碳化硅襯底或外延片的清洗工作經(jīng)驗優(yōu)先。
福利待遇:
周末雙休、包食宿、五險一金、帶薪假期等