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更新于 4月24日

ALD工藝研發(fā)工程師

1.9-3.5萬·15薪
  • 北京通州區(qū)
  • 3-5年
  • 碩士
  • 全職
  • 招1人

職位描述

外延工藝
崗位職責(zé):
1、負(fù)責(zé)新型存儲器研發(fā)所需的先進(jìn)原子層沉積薄膜材料生長以及工藝研發(fā),對材料進(jìn)行系統(tǒng)表征測試(TEM,XRD,SIMS,SEM,AFM等);
2、依據(jù)研發(fā)項目需求,調(diào)研文獻(xiàn)和開展實驗,確定優(yōu)化工藝條件,保障整體研發(fā)進(jìn)度;
3、引入和評估新材料、新機(jī)臺、新功能,并降低工藝成本;
5、熟練使用數(shù)據(jù)統(tǒng)計分析軟件及實驗設(shè)計工具(DOE);
6、分析數(shù)據(jù)并總結(jié)科技研發(fā)報告,定期匯報研發(fā)進(jìn)展,撰寫相關(guān)科技論文和申請專利。
任職要求:
1、電子類/物理/化學(xué)/材料等相關(guān)專業(yè),碩士及以上學(xué)歷,博士優(yōu)先;
2、3-5年12inch ALD相關(guān)研發(fā)經(jīng)驗;
3、較強(qiáng)的溝通表達(dá)能力、組織協(xié)調(diào)能力和團(tuán)隊合作精神;
4、具有優(yōu)秀的英文閱讀和寫作能力
5、具有良好的研發(fā)能力和思維,吃苦耐勞,能適應(yīng)半導(dǎo)體研發(fā)工作模式;
6、有本領(lǐng)域發(fā)明專利申請經(jīng)驗者優(yōu)先。

工作地點

北京通州區(qū)京東貝科技園(西南門)

職位發(fā)布者

王雅璇/HR

三日內(nèi)活躍
立即溝通
公司Logo北京超弦存儲器研究院
北京超弦存儲器研究院于2020年9月在北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)成立。作為產(chǎn)學(xué)研合作平臺,研究院聚焦國際先進(jìn)的存儲器技術(shù)研發(fā)和高端人才培養(yǎng),致力于實現(xiàn)國產(chǎn)存儲器芯片制造技術(shù)的持續(xù)迭代,努力成長為世界存儲器芯片的技術(shù)創(chuàng)新高地。研究院的研究方向集中于DRAM制造技術(shù)的尺寸微縮,在DRAM新架構(gòu)、新材料、新工藝、先進(jìn)封裝、先進(jìn)光刻技術(shù)、近存計算和高帶寬存儲等領(lǐng)域,對未來DRAM量產(chǎn)技術(shù)可能存在的主要路徑開展系統(tǒng)的工藝研發(fā)和設(shè)計-制造協(xié)同優(yōu)化。目前主要的研究項目包括4F2垂直圍柵晶體管動態(tài)隨機(jī)存儲器、銦鎵鋅氧場效應(yīng)晶體管動態(tài)隨機(jī)存儲器、橫向堆疊單元存儲器、垂直圍柵晶體管磁存儲器等基于新器件結(jié)構(gòu)的存儲器制造技術(shù);基于混合鍵合技術(shù)的高帶寬存儲器芯片和近存計算、存內(nèi)計算等芯片的設(shè)計和制造;以及先進(jìn)DRAM制造中的關(guān)鍵光刻技術(shù)和設(shè)計技術(shù)方法學(xué)研究等。研究院擁有12英寸先進(jìn)DRAM研發(fā)所需的硬件條件,包括傳統(tǒng)的1X DRAM全流程基礎(chǔ)工藝和一系列由特種裝備構(gòu)成的短流程特色工藝;設(shè)計制造協(xié)同優(yōu)化所需的軟件平臺;以及具有豐富的芯片工藝和設(shè)計研發(fā)經(jīng)驗的技術(shù)團(tuán)隊。研究院與清華大學(xué)、北京大學(xué)、中國科學(xué)院微電子研究所等國內(nèi)外領(lǐng)先的高校院所和集成電路行業(yè)領(lǐng)軍企業(yè)建立了緊密的合作關(guān)系,開展基于項目的研發(fā)合作。同時,研究院與上述三家院所在人才聯(lián)合培養(yǎng)方面開展了系統(tǒng)而緊密的合作,為產(chǎn)業(yè)研究生的培養(yǎng)提供了研發(fā)和實訓(xùn)平臺。
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