職位描述
CMP化學機械拋光
崗位職責：
1.進行CMP工藝調試，工藝優(yōu)化，配合其它模塊工藝進行流程改善；
2.cost down項目管控，提供可行性想法，進行可行性數據驗證及分析；
3.日常inline、offline數據監(jiān)控及分析，主動發(fā)現異常點，解決異?，F象；
4.聽從部門領導工作安排，對于產品問題，需要及時處理； 5.完成領導交辦的其他工作。
任職要求：
1.大專以上學歷，2年以上同崗位濾波器或IC行業(yè)經驗，對于CMP工藝制程熟悉，工藝參數了解深入；
2.對于CMP機臺構造，機臺性能有一定理解，機臺出現異常需要給出工藝方面的判斷；
3.對于CMP耗材要精通，如拋光墊，slurry研磨液，Disk研磨盤等核心物料，要熟悉配件要求以及作用，并能調試出所需要的工藝參數；
4.對于CMP工藝的主要數據，必須能獨立分析，如均勻性，Dishing臺階，表面潔凈度等重要指標，如出站異常必須及時解決，并輸出異常報告；
5.需要有成本管控意識，進行成本項目輸出，減少生產成本，如優(yōu)化研磨液用量，增加耗材使用時長，調研市場內二供物料能力等，并確定周期性項目報告。
注：優(yōu)先有研磨二氧化硅和硅基工作經驗
工作地點
源城區(qū)河源市艾佛光通科技有限公司
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職位發(fā)布者
黃女士/HR
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河源市艾佛光通科技有限公司新時代、新機遇、新挑戰(zhàn)，第三代半導體是全球戰(zhàn)略競爭的制高點，是未來電子信息產業(yè)的基石，也是我國長期受到西方發(fā)達國家卡脖子的重大技術難題。以發(fā)展我國第三代半導體核心技術為使命的艾佛光通科技有限公司，擁有以國家科技創(chuàng)新領軍人才、國家長江學者、國家重點研發(fā)計劃首席科學家等20多位博士為核心的國際一流科學家技術團隊，歷經10多年、投入近10億元的刻苦研發(fā)攻關，率先在第三代半導體的材料生長、芯片設計、制造工藝和關鍵裝備等方面上取得多項原創(chuàng)性技術突破，使我國成為繼美日之后，少數幾個全方位掌握第三代半導體技術的國家。艾佛光通開創(chuàng)了完全獨立自主的全鏈條Si基GaN、AlN等第三代半導體材料與芯片技術。艾佛光通所研發(fā)生產的多種芯片已在多個領域得到應用。艾佛獨有技術獲得了包括國家技術發(fā)明二等獎、廣東省技術發(fā)明一等獎在內的省部級以上科技獎勵8項。榮譽資質獲得國家技術發(fā)明二等獎、廣東省技術發(fā)明一等獎等省部級以上科技獎勵8項已在國防上得到應用，并于國際龍頭企業(yè)簽訂多項產品及技術開發(fā)合同獲得項目：國家重點研發(fā)計劃、廣東省重大專項、廣東省揚帆計劃等已獲發(fā)明專利100余件，國際PCT專利20余件，實審公開發(fā)明專利100余件
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